Die letzte Massenproduktion ist 7nm! Samsungs EUV-Technologie-Gießerei V1 in Korea

Laut dem Fast-Technology-Bericht gab Samsung heute (20) bekannt, dass im südkoreanischen Hwaseong Industrial Park eine neue Wafergießerei-Produktionslinie V1 mit EUV-Technologie (Extreme Ultraviolet Lithography) mit einer Massenproduktion von 7 nm eröffnet wird.

Es wird davon ausgegangen, dass die V1-Produktionslinie im Februar 2018 begann und die Testwaferproduktion in der zweiten Hälfte des Jahres 2019 beginnen wird. Die ersten Produkte werden im ersten Quartal dieses Jahres an Kunden ausgeliefert. Derzeit hat V1 in die Produktion von 7-nm- und 6-nm-EUV-Mobilchips investiert und plant, in Zukunft eine Gießerei im höchsten 3-nm-Maßstab zu sein.

Laut Samsung-Vereinbarung wird die Gesamtinvestition der V1-Produktionslinie bis Ende 2020 6 Milliarden US-Dollar erreichen, und die Gesamtproduktionskapazität für fortschrittliche Prozesse unter 7 nm wird dreimal so hoch sein wie 2019. Dr. ES Jung, Präsident Laut dem Fertigungsgeschäft von Samsung wird die V1-Linie mit der S3-Linie zusammenarbeiten, um das Unternehmen bei der Erweiterung seiner Kunden und der Reaktion auf die Marktnachfrage zu unterstützen.

Samsung hat jetzt sechs Fabriken auf der Welt, darunter eine 8-Zoll- und fünf 12-Zoll-Fabrik. Zuvor hatte Samsung Electronics angekündigt, bis 2030 133 Billionen Won in die Modernisierung des Halbleitergeschäfts zu investieren.

Dem Plan zufolge entfallen 73 Billionen Won der 133 Billionen Won-Investitionen auf Kosten für Technologieforschung und -entwicklung, und 60 Billionen Won entfallen auf den Bau der Fab-Infrastruktur, die voraussichtlich 15.000 Arbeitsplätze schaffen wird. Ziel von Samsung ist es, 2030 zu erreichen, um nicht nur die Führung bei Speicherchips zu behalten, sondern auch führend bei Logikchips zu werden.